标题 |
Effect of nanosilica abrasive properties on tungsten chemical mechanical planarization
纳米二氧化硅磨料性能对钨化学机械平坦化的影响
相关领域
化学机械平面化
钨
磨料
材料科学
复合材料
冶金
抛光
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DOI | |
其它 |
期刊:Journal of materials science. Materials in electronics 作者:J.P. Zhang; Rong Guo; L. Wang; Wenxiang Xie; Deng Pan; et al 出版日期:2024-02-01 |
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