标题 |
Atomic Layer Deposition of WO3-Doped In2O3 for Reliable and Scalable BEOL-Compatible Transistors
用于可靠和可扩展的BEOL兼容晶体管的WO3掺杂In2O3原子层沉积
相关领域
原子层沉积
材料科学
兴奋剂
图层(电子)
沉积(地质)
光电子学
纳米技术
古生物学
沉积物
生物
|
网址 | |
DOI | |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|