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 Synthesis and Characterizations of a Nonalkyl Tin Oxo Cluster and its Application as High EUV Absorption Coefficient and Etch Resistant Inorganic Resist for EUV Lithography 非烷基锡氧代团簇的合成、表征及其作为EUV光刻用高吸收系数和耐蚀刻无机抗蚀剂的应用
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期刊：Inorganic Chemistry 作者：Hyeok Yun; Sang Taek Heo; Jiyoung Bang; Minyeob Kim; Hyung‐Bae Moon; et al 出版日期：2025-03-05 |
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