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标题
Atomic layer deposition of metal and nitride thin films: Current research efforts and applications for semiconductor device processing
金属和氮化物薄膜的原子层沉积：当前半导体器件加工的研究进展和应用
相关领域
原子层沉积 材料科学 薄膜 纳米技术 氮化物 半导体 沉积（地质） 制作 原子层外延 物理气相沉积 图层（电子） 光电子学 医学 生物 沉积物 病理 古生物学 替代医学
网址
https://doi.org/10.1116/1.1622676
DOI
10.1116/1.1622676 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：H. Kim
出版日期：2003-11-01
求助人
学术疯子 在 2025-03-31 10:39:47 发布自广东，悬赏 10 积分
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