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Physical properties of RF sputtered ITO thin films and annealing effect
射频溅射ITO薄膜的物理性能及退火效应
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网址
https://doi.org/10.1088/0022-3727/39/1/027
AI链接 hal.science archives-ouvertes.frdoi.org
DOI
10.1088/0022-3727/39/1/027 doi
其它 期刊：Journal of Physics D
作者：L. Kerkache; A. Layadi; El Hadj Dogheche; Denis Rémiens
出版日期：2005-12-15
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花开米兰城 在 2024-11-22 17:05:51 发布自江苏，悬赏 10 积分
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