| 标题 |
 书籍（章节） Si Epitaxial Growth on the Atomic-Order Nitrided Si(100) Surface in SiH4 Reaction SiH4反应中Si在原子级氮化Si（100）表面上的外延生长
相关领域
渗氮
外延
材料科学
曲面（拓扑）
纳米技术
数学
图层（电子）
几何学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Elsevier eBooks 作者：Youngcheon Jeong; Masao Sakuraba; Takashi Matsuura; Junichi Murota 出版日期：2003-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
劲秉
迟大猫
请叫我风吹麦浪
科研小民工
QOP
迷人秋烟
Singularity
昏睡的蟠桃
cdercder
美好乐松
maox1aoxin
默默地读文献
nozero
pluto
Grayball
VDC
子车茗
1+1
爱静静
1351567822
皖公网安备34019202002308
