On The Dissolution Kinetics Of Positive Photoresists: The Secondary Structure Model

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标题	On The Dissolution Kinetics Of Positive Photoresists: The Secondary Structure Model 正性光刻胶的溶解动力学：二级结构模型相关领域溶解动力学分子内力离子强度材料科学分子离子键合氢键热力学化学化学工程物理化学有机化学离子物理量子力学水溶液工程类
网址	https://doi.org/10.1117/12.940318
DOI	10.1117/12.940318 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Michael K. Templeton; Charles R. Szmanda; Anthony Zampini 出版日期：1987-08-25
求助人	虚心盼夏在 2025-02-12 19:18:39 发布自上海，悬赏 20 积分
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