High-rate plasma-deposited SiO2 films for surface passivation of crystalline silicon

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标题	High-rate plasma-deposited SiO2 films for surface passivation of crystalline silicon 高速等离子体沉积SiO2薄膜用于晶体硅表面钝化相关领域钝化硅材料科学八甲基环四硅氧烷氧气分析化学（期刊）折射率氢氧化硅晶体硅退火（玻璃）等离子体氩纳米技术图层（电子）化学光电子学复合材料有机化学高分子化学物理量子力学氮化硅色谱法
网址	https://doi.org/10.1116/1.2232580
DOI	10.1116/1.2232580 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Bram Hoex; F J J Peeters; Mariadriana Creatore; M. A. Blauw; W. M. M. Kessels; et al 出版日期：2006-08-07
求助人	doudou 在 2024-12-11 15:10:48 发布自陕西，悬赏 10 积分
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