Modulation of the effective work function of TiN metal gate for PMOS application

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标题	Modulation of the effective work function of TiN metal gate for PMOS application PMOS应用中TiN金属栅极有效功函数的调制相关领域金属浇口材料科学工作职能退火（玻璃）金属 PMOS逻辑阈值电压氮化钛光电子学锡纳米技术电子工程电气工程栅氧化层晶体管电压图层（电子）冶金氮化物工程类
网址	https://doi.org/10.1088/1674-4926/34/8/086002
DOI	10.1088/1674-4926/34/8/086002 doi
其它	期刊：Journal of Semiconductors 作者：Kai Han; Xueli Ma; Hong Yang; Wenwu Wang 出版日期：2013-08-01
求助人	fyt723175249 在 2024-12-30 11:06:56 发布自浙江，悬赏 10 积分
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