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 A Comprehensive Study of NF3-Based Selective Etching Processes: Application to the Fabrication of Vertically Stacked Horizontal Gate-All-around Si Nanosheet Transistors 基于NF3的选择性蚀刻工艺的综合研究：在垂直堆叠水平栅极全方位硅纳米片晶体管制造中的应用
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
反应离子刻蚀
纳米片
各向同性腐蚀
干法蚀刻
选择性
纳米技术
光电子学
制作
分析化学（期刊）
化学
图层（电子）
有机化学
催化作用
医学
替代医学
病理
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| 其它 |
期刊：Nanomaterials 作者：Xin Sun; Jiayang Li; Lewen Qian; Dawei Wang; Ziqiang Huang; et al 出版日期：2024-05-24 |
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