标题 |
Effect of size and plasma treatment and the application of Weibull distribution on the breakdown of PECVD SiNx MIM capacitors
尺寸、等离子体处理及威布尔分布对PECVD SiNx MIM电容器击穿的影响
相关领域
威布尔分布
等离子体增强化学气相沉积
电容器
材料科学
等离子体
光电子学
电气工程
数学
物理
工程类
化学气相沉积
电压
统计
量子力学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:Chia-Cheng Ho; Sien Chi 出版日期:2007-05-17 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|