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标题
Use of anionic surfactants for selective polishing of silicon dioxide over silicon nitride films using colloidal silica-based slurries
阴离子表面活性剂在使用胶体二氧化硅基浆料在氮化硅膜上选择性抛光二氧化硅中的应用
相关领域
十二烷基硫酸钠 无机化学 二氧化硅 Zeta电位 吸附 氮化硅 肺表面活性物质 氧化物 化学 氮化物 化学工程 材料科学 有机化学 纳米颗粒 硅 纳米技术 图层（电子） 工程类 生物化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2013.07.057
DOI
10.1016/j.apsusc.2013.07.057 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Naresh K. Penta; H. P. Amanapu; Brown Peethala; S. V. Babu
出版日期：2013-07-20
求助人
沈妤 在 2025-02-11 23:28:04 发布自浙江，悬赏 10 积分
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