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A 55nm Ultra Low Leakage Deeply Depleted Channel technology optimized for energy minimization in subthreshold SRAM and logic
一种针对亚阈值SRAM和逻辑中能量最小化而优化的55nm超低泄漏深耗尽沟道技术
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阈下传导
泄漏(经济)
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期刊: 作者:Harsh N. Patel; Abhishek Roy; Farah B. Yahya; Ningxi Liu; Benton H. Calhoun; et al 出版日期:2016-09-01 |
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