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Model on transport phenomena and epitaxial growth of silicon thin film in SiHCl3H2 system under atmospheric pressure
大气压下SiHCl3~H2体系中硅薄膜外延生长与输运模型
相关领域
外延 增长率 硅 大气压力 基质（水族馆） 化学吸附 分解 化学 材料科学 化学物理 物理化学 化学工程 催化作用 光电子学 纳米技术 有机化学 物理 气象学 地质学 几何学 图层（电子） 工程类 海洋学 数学
网址
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/0022024896...
DOI
10.1016/0022-0248(96)00376-4 doi
其它 期刊：Journal of Crystal Growth
作者：Hitoshi Habuka; Takatoshi Nagoya; Masanori Mayusumi; Masatake Katayama; Manabu Shimada; Kikuo Okuyama
出版日期：2003-05-13
求助人
博弈春秋 在 2024-11-21 19:08:09 发布自北京，悬赏 10 积分
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