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 Enhancing ferroelectricity in HfAlOx-based ferroelectric tunnel junctions: A comparative study of MFS and MFIS structures with ultrathin interfacial layers 增强HfAlOx基铁电隧道结的铁电性：具有超薄界面层的MFS和MFIS结构的比较研究
相关领域
材料科学
铁电性
半导体
绝缘体（电）
泄漏（经济）
极化（电化学）
工程物理
纳米技术
光电子学
电介质
工程类
宏观经济学
物理化学
经济
化学
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期刊：Ceramics International 作者：Yongjin Park; Woo-Hyun Park; Sungjun Kim 出版日期：2024-05-01 |
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