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标题
Interfacial Reaction Boosts Thermal Conductance of Room‐Temperature Integrated Semiconductor Interfaces Stable up to 1100 °C
界面反应提高室温集成半导体界面的热导率稳定高达1100°C
相关领域
材料科学 半导体 电导 热的 热导率 纳米技术 化学工程 光电子学 复合材料 凝聚态物理 热力学 物理 工程类
网址
DOI
10.1002/aelm.202400387 doi
其它 期刊:Advanced Electronic Materials
作者:Xiaoyang Ji; Zifeng Huang; Yutaka Ohno; Koji Inoue; Yasusyohi Nagai; et al
出版日期:2024-10-14
求助人
武雨寒 在 2024-11-05 21:29:18 发布自上海,悬赏 10 积分
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