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<title>Optimization of LPCVD silicon oxynitride growth to large refractive index homogeneity and layer thickness uniformity</title>
优化LPCVD氮氧化硅生长以获得大折射率均匀性和层厚均匀性
相关领域
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DOI
10.1117/12.281235 doi
其它 期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者:Kerstin Woerhoff; Paul Lambeck; H. Albers; O.F.J. Noordman; Niko F. van Hulst; et al
出版日期:1997-09-24
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