Best focus alignment through pitch strategies for hyper-NA EUV lithography

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标题	Best focus alignment through pitch strategies for hyper-NA EUV lithography 通过间距策略实现超NA EUV光刻的最佳焦点对准相关领域极紫外光刻平版印刷术光学（聚焦）浸没式光刻多重图案计算机科学材料科学抵抗光学光电子学纳米技术物理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.3010846
DOI	10.1117/12.3010846 doi
其它	期刊：作者：Inhwan Lee; Joern-Holger Franke; Vicky Philipsen; Kurt Ronse; Stefan De Gendt; et al 出版日期：2024-04-10
求助人	liu66 在 2024-08-28 13:12:00 发布自吉林，悬赏 20 积分
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