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 Polishing Characteristics of Silicon Carbide by Plasma Chemical Vaporization Machining 等离子体化学气相加工碳化硅的抛光特性
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期刊：Japanese journal of applied physics 作者：Yasuhisa Sano; Masaru Watanabe; Kazuya Yamamura; Kazuto Yamauchi; Takeshi Ishida; et al 出版日期：2006-10-01 |
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