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标题
Endurance > 1011 Cycling of 3D GAA Nanosheet Ferroelectric FET with Stacked HfZrO2 to Homogenize Corner Field Toward Mitigate Dead Zone for High-Density eNVM
具有堆叠HfZrO2的3D GAA纳米片铁电FET的耐久性>1011循环,以均匀角场以减轻高密度eNVM的死区
相关领域
纳米片 铁电性 物理 材料科学 纳米技术 光电子学 电介质 冶金
网址
DOI
10.1109/vlsitechnologyandcir46769.2022.9830345 doi
其它 期刊:2022 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits)
作者:C.-Y. Liao; K.-Y. Hsiang; Zaizhu Lou; Hsien‐Cheng Tseng; Cheng-Hung Lin; et al
出版日期:2022-06-12
求助人
spark810 在 2024-11-08 02:45:36 发布自美国,悬赏 10 积分
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