| 标题 |
 Lloyd’s mirror interference lithography below a 22-nm pitch with an accessible, tabletop, 13.5 nm high-harmonic EUV source 22 nm间距以下的劳埃德镜干涉光刻，采用可访问的桌面13.5 nm高次谐波EUV源
相关领域
极紫外光刻
干涉光刻
干扰（通信）
谐波
平版印刷术
材料科学
光电子学
光刻
光学
物理
计算机科学
电信
声学
医学
频道（广播）
替代医学
病理
制作
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Kevin M. Dorney; Sonia Castellanos; Esben W. Larsen; Fabian Holzmeier; D. P. Singh; et al 出版日期：2021-02-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
嗯哼
无情向薇
小蘑菇
皖公网安备34019202002308
