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标题
Role of NO in highly selective SiN/SiO2 and SiN/Si etching with NF3/O2 remote plasma: Experiment and simulation
NO在NF3/O2远程等离子体高选择性SiN/SiO2和SiN/Si蚀刻中的作用：实验与模拟
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1116/1.5004546
DOI
10.1116/1.5004546 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Yuri Barsukov; Vladimir Volynets; Sangjun Lee; Gonjun Kim; Byoungsu Lee; et al
出版日期：2017-10-06
求助人
renweiyu 在 2025-01-06 14:45:21 发布自广东，悬赏 10 积分
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