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标题
Effect of grain boundary scattering on carrier mobility and thermoelectric properties of tellurium incorporated copper iodide thin films
晶界散射对含碲碘化铜薄膜载流子迁移率和热电性能的影响
相关领域
材料科学 碲 热电效应 散射 电子迁移率 半导体 声子散射 晶界 溅射 塞贝克系数 光电子学 载流子散射 薄膜 铜 分析化学（期刊） 热导率 纳米技术 光学 冶金 复合材料 化学 微观结构 热力学 物理 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.surfin.2023.103190
AI链接 sciencedirect.com figshare.com figshare.comdoi.org
DOI
10.1016/j.surfin.2023.103190 doi
其它 期刊：Surfaces and Interfaces
作者：Martin Markwitz; Peter P. Murmu; Song Yi Back; Takao Mori; B. J. Ruck; et al
出版日期：2023-10-01
求助人
野很刘女士 在 2025-01-06 17:12:00 发布自广东，悬赏 10 积分
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