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 Tuning of SiO2/Si interface by a hybrid plasma process combining oxidation and atom-migration 氧化和原子迁移相结合的混合等离子体工艺调控SiO2/Si界面
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期刊：Journal of Manufacturing Processes 作者：Shaoxiang Liang; Bing Wu; Yinhui Wang; Hui Deng 出版日期：2023-10-20 |
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