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标题
Fast lithographic mask optimization considering process variation
考虑工艺变化的快速光刻掩模优化
相关领域
工艺变化 进程窗口 光学接近校正 平版印刷术 计算机科学 过程（计算） GSM演进的增强数据速率 灵敏度（控制系统） 趋同（经济学） 电子工程 材料科学 光电子学 工程类 人工智能 经济 经济增长 操作系统
网址
http://ieeexplore.ieee.org/iel7/6991350/7001313/07001357.pdf...
AI链接 ieee.orgdoi.org
DOI
10.5555/2691365.2691413 doi
其它 期刊：International Conference on Computer Aided Design
作者：Yu-Hsuan Su; Yu-Chen Huang; Liang-Chun Tsai; Yao‐Wen Chang; Shayak Banerjee
出版日期：2014-11-03
求助人
勤劳怜寒 在 2024-12-24 22:15:56 发布自中国，悬赏 10 积分
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