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标题
Effectiveness of Si Seed for Selective SiGe Epitaxial Deposition in Recessed Source and Drain for Locally Strained pMOS Application
用于局部应变pMOS应用的凹陷源极和漏极中选择性外延沉积SiGe的Si籽晶的有效性
相关领域
PMOS逻辑 材料科学 外延 光电子学 图层（电子） 成核 位错 沉积（地质） 复合材料 晶体管 电气工程 化学 电压 古生物学 有机化学 沉积物 生物 工程类
网址
https://doi.org/10.1149/1.2355817
DOI
10.1149/1.2355817 doi
其它 期刊：ECS Transactions
作者：Po Lun Cheng; Chin I Liao; Hou Ren Wu; Yi Cheng Chen; Chin Cheng Chien; et al
出版日期：2006-10-20
求助人
Kevin 在 2024-12-15 11:22:07 发布自北京，悬赏 10 积分
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