标题 |
Investigation of the wake-up process and time-dependent imprint of Hf0.5Zr0.5O2 film through the direct piezoelectric response
用直接压电响应研究Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的唤醒过程和时间相关印记
相关领域
铁电性
压电
电场
极化(电化学)
材料科学
压电系数
磁滞
极化密度
电压
薄膜
电极
光电子学
凝聚态物理
光学
电介质
复合材料
纳米技术
磁场
化学
电气工程
物理
磁化
量子力学
工程类
物理化学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Kenshi Takada; Mikio Murase; Shinji Migita; Yukinori Morita; Hiroyuki Ota; et al 出版日期:2021-07-19 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|