标题 |
Influence of negative bias voltage on microstructure and property of Al-Ti-N films deposited by multi-arc ion plating
负偏置电压对多弧离子镀Al-Ti-N薄膜显微结构和性能的影响
相关领域
材料科学
微观结构
偏压
离子镀
X射线光电子能谱
压痕硬度
粘附
复合材料
离子
沉积(地质)
薄膜
分析化学(期刊)
电压
化学工程
纳米技术
电气工程
化学
工程类
古生物学
生物
色谱法
有机化学
沉积物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Ceramics International 作者:Fei Cai; Chen Mohan; Mingxi Li; Shihong Zhang 出版日期:2017-03-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|