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标题
Modeling Electromigration Lifetimes of Copper Interconnects
铜互连线电迁移寿命建模
相关领域
电迁移 铜互连 空隙(复合材料) 成核 互连 材料科学 电子工程 计算机科学 冶金 复合材料 工程类 物理 热力学 计算机网络
网址
DOI
10.1149/1.3615190 doi
其它 期刊:ECS Transactions
作者:R. L. de Orio; H. Ceric; S. Selberherr
出版日期:2011-09-15
求助人
风趣凡阳 在 2024-09-11 19:42:32 发布自云南,悬赏 10 积分
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