EUV lithography line-space pattern rectification using block copolymer directed self-assembly: a roughness and defectivity study

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标题	EUV lithography line-space pattern rectification using block copolymer directed self-assembly: a roughness and defectivity study 基于嵌段共聚物定向自组装的EUV光刻线间距图形整流：粗糙度和缺陷研究相关领域极紫外光刻平版印刷术材料科学临界尺寸极端紫外线浸没式光刻多重图案表面光洁度表面粗糙度光刻光电子学光学抵抗纳米技术物理复合材料激光器图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2657990
DOI	10.1117/12.2657990 doi
其它	期刊：作者：Julie Van Bel; Lander Verstraete; Hyo Seon Suh; Stefan De Gendt; Philippe Bézard; et al 出版日期：2023-05-01
求助人	专一的孤菱在 2024-08-03 15:12:09 发布自湖北，悬赏 20 积分
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