标题 |
![]() NF3/H2脉冲射频等离子体自由基复合选择性刻蚀SiO2
相关领域
选择性
蚀刻(微加工)
等离子体
材料科学
反应离子刻蚀
干法蚀刻
等离子体刻蚀
光电子学
无线电频率
分析化学(期刊)
化学
纳米技术
物理
生物化学
图层(电子)
量子力学
电信
色谱法
计算机科学
催化作用
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:ACS applied electronic materials 作者:Dae Whan Kim; Hong Seong Gil; Wonse Park; Ji Yeon Lee; Doo San Kim; et al 出版日期:2024-12-20 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|