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标题
Chemical characteristics via quantitative photoelectron analysis of chemical-solution-deposited yttrium oxide thin films for Metal-Insulator-Metal Capacitor applications
金属-绝缘体-金属电容器用化学溶液沉积氧化钇薄膜的化学特性的定量光电子分析
相关领域
钇 金属 X射线光电子能谱 电容器 氧化物 薄膜 材料科学 绝缘体（电） 金属绝缘体金属 无机化学 分析化学（期刊） 化学工程 化学 纳米技术 光电子学 冶金 电压 电气工程 环境化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140269
DOI
10.1016/j.tsf.2024.140269 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Martin A. Ruiz-Molina; G. Suárez-Campos; D. Cabrera-Germán; D. Berman-Mendoza; Hailin Hu; et al
出版日期：2024-02-22
求助人
Ava 在 2025-04-02 23:57:28 发布，悬赏 10 积分
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