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 Comparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film 离子束光刻中PMMA收缩率的比较：玻璃衬底上的PMMA与独立式PMMA薄膜
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期刊：Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B-beam Interactions With Materials and Atoms 作者：Oleksandr Romanenko; Vasily Lavrentiev; Andrei Borodkin; V. Havránek; Anna Macková 出版日期：2023-03-08 |
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