Investigation of Factors Causing Watermark Defect on Hydrophobic Silicon Surface

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标题	Investigation of Factors Causing Watermark Defect on Hydrophobic Silicon Surface 疏水硅表面水印缺陷产生因素的研究相关领域水印氢氟酸硅薄脆饼材料科学持续时间（音乐）湿度化学工程光电子学纳米技术复合材料计算机科学冶金工程类人工智能声学物理嵌入热力学
网址	https://doi.org/10.1109/asmc57536.2023.10121091
DOI	10.1109/asmc57536.2023.10121091 doi
其它	期刊：作者：Adukkadukkam Dineshan; Goh Alan; T. Sean; Ooi Shau Chiet; Yiwen Zhang 出版日期：2023-05-01
求助人	晶格畸变在 2024-12-24 17:15:15 发布自安徽，悬赏 10 积分
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