Indium-free GZO thin films prepared using plasma-enhanced atomic layer deposition: toward thin film transistor application

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标题	Indium-free GZO thin films prepared using plasma-enhanced atomic layer deposition: toward thin film transistor application 等离子体增强原子层沉积制备无铟GZO薄膜及其在薄膜晶体管中的应用相关领域材料科学铟原子层沉积图层（电子）薄膜薄膜晶体管光电子学沉积（地质）晶体管等离子体逐层纳米技术电气工程生物物理工程类古生物学电压量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1039/d2tc03052g
DOI	10.1039/d2tc03052g doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Chun-Yan Shi; Qi-Zhen Chen; Zhi-Xuan Zhang; Chia-Hsun Hsu; Ming-Jie Zhao; et al 出版日期：2022-01-01
求助人	认真凝安在 2025-01-19 21:23:30 发布自重庆，悬赏 10 积分
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