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标题
Indium-free GZO thin films prepared using plasma-enhanced atomic layer deposition: toward thin film transistor application
等离子体增强原子层沉积制备无铟GZO薄膜及其在薄膜晶体管中的应用
相关领域
材料科学 原子层沉积 图层(电子) 薄膜 薄膜晶体管 光电子学 沉积(地质) 晶体管 等离子体 逐层 纳米技术 电气工程 生物 物理 工程类 古生物学 电压 量子力学 沉积物
网址
DOI
10.1039/d2tc03052g doi
其它 期刊:Journal of Materials Chemistry C
作者:Chun-Yan Shi; Qi-Zhen Chen; Zhi-Xuan Zhang; Chia-Hsun Hsu; Ming-Jie Zhao; et al
出版日期:2022-01-01
求助人
认真凝安 在 2025-01-19 21:23:30 发布自重庆,悬赏 10 积分
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