| 标题 |
 Effect of Hydrogen Plasma Treatment on Formation of Amorphous Silicon Film Using Organosoluble Silicon Cluster as a Precursor 氢等离子体处理对以有机可溶性硅团簇为前驱体形成非晶硅薄膜的影响
相关领域
硅
非晶硅
拉曼光谱
材料科学
无定形固体
薄膜
傅里叶变换红外光谱
纳米晶硅
氢
分析化学（期刊）
化学工程
晶体硅
光电子学
化学
纳米技术
有机化学
光学
物理
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Akira Watanabe; Masashi Unno; Fusao Hojo; Takao Miwa 出版日期：2000-10-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
SYLH
lalala
劲秉
迟大猫
杳鸢
djsj
kingwill
眯眯眼的衬衫
36456657
坚强的广山
子车茗
笑点解析
pluto
凹凸先森
Hungrylunch
prosperp
shinysparrow
天真蓝
请叫我风吹麦浪
VDC
皖公网安备34019202002308
