Growth of Aluminum Nitride Thin Films by Atomic Layer Deposition and Their Applications: A Review

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标题	Growth of Aluminum Nitride Thin Films by Atomic Layer Deposition and Their Applications: A Review 原子层沉积法生长氮化铝薄膜及其应用相关领域材料科学氮化物原子层沉积图层（电子）铝薄膜沉积（地质）冶金纳米技术工程物理工程类古生物学沉积物生物
网址	https://doi.org/10.3740/mrsk.2019.29.9.567
DOI	10.3740/mrsk.2019.29.9.567 doi
其它	期刊：Korean Journal of Materials Research 作者：Hee Ju Yun; Hogyoung Kim; Byung Joon Choi 出版日期：2019-09-01
求助人	调研昵称在 2025-03-10 15:27:15 发布自北京，悬赏 10 积分
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