A vapour etching technique for the photolithography of silicon dioxide

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标题	A vapour etching technique for the photolithography of silicon dioxide 一种用于二氧化硅光刻的气相刻蚀技术相关领域二氧化硅蚀刻（微加工）氢氟酸光刻干法蚀刻硅抵抗材料科学光电子学反应离子刻蚀平版印刷术缓冲氧化物腐蚀平面的纳米技术复合材料计算机科学冶金计算机图形学（图像）图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/0026-2714(66)90162-4
DOI	10.1016/0026-2714(66)90162-4 doi
其它	期刊：Microelectronics reliability/Microelectronics and reliability 作者：P.J. Holmes; J.E. Snell 出版日期：1966-11-01
求助人	zzh 在 2024-06-29 15:04:25 发布自江苏，悬赏 10 积分
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