标题 |
A study of greyscale electron beam lithography for a 3D round shape Kinoform lens for hard X-ray optics
硬X射线光学用三维圆形Kinoform透镜的灰度电子束光刻研究
相关领域
光学
抵抗
镜头(地质)
平版印刷术
超透镜
材料科学
电子束光刻
灰度
物理
纳米技术
折射率
像素
图层(电子)
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DOI | |
其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:Xujie Tong; Chen Xu; Jiancai Zhu; Chengwen Mao; Xiangjun Zhen; et al 出版日期:2020-10-01 |
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