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 Influence of base pressure on property of sputtering deposited ITO film 基底压力对溅射沉积ITO薄膜性能的影响
相关领域
X射线光电子能谱
溅射
材料科学
氧化铟锡
分析化学（期刊）
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期刊：Journal of materials science. Materials in electronics 作者：Shumin Yang; Jingming Zhong; Bin Sun; Xueyun Zeng; Wen Qin Luo; et al 出版日期：2019-06-17 |
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