| 标题 |
 Thin‐Film PVD: Materials, Processes, and Equipment 薄膜PVD：材料、工艺和设备
相关领域
溅射
薄膜晶体管
材料科学
物理气相沉积
基质（水族馆）
光电子学
薄膜
合金
平板显示器
铟
氧化物
镓
晶体管
图层（电子）
冶金
纳米技术
电气工程
工程类
电压
地质学
海洋学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Tetsuhiro Ohno 出版日期：2018-08-06 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
杳鸢
WUWUWU
嗯哼
shinysparrow
YifanWang
Billy
纳兰若微
洛洛大方
归尘
梁朝伟
热情依白
cocolu
MROU
tuanheqi
xchqb
sissiarno
123
青羽凌雪
粗犷的灵松
从容芮
皖公网安备34019202002308
