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 Synergistic effects of vacuum ultraviolet radiation, ion bombardment, and heating in 193nm photoresist roughening and degradation 真空紫外辐射、离子轰击和加热在193nm光刻胶粗糙化和降解中的协同效应
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期刊：Applied Physics Letters 作者：D. Nest; David B. Graves; Sebastian Engelmann; Robert L. Bruce; F. Weilnboeck; et al 出版日期：2008-04-14 |
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