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Fast and accurate proximity effect correction algorithm based on pattern edge shape adjustment for electron beam lithography
基于电子束光刻图形边缘形状调整的快速精确邻近效应校正算法
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期刊: 作者:Wenze Yao; Hongcheng Xu; Haojie Zhao; Ming Tang; Jie Liu 出版日期:2023-03-01 |
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