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标题
Growth of Atomic layer-deposited Monoclinic Molybdenum Dioxide Films Stabilized by Tin Oxide Doping for DRAM Capacitor Electrode Applications
DRAM电容器电极用氧化锡掺杂稳定的原子层沉积单斜二氧化钼薄膜的生长
相关领域
原子层沉积 材料科学 单斜晶系 锡 退火（玻璃） 金红石 纳米技术 化学工程 氧化锡 薄膜 兴奋剂 电极 光电子学 冶金 晶体结构 结晶学 化学 物理化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1021/acsami.4c03158
DOI
10.1021/acsami.4c03158 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：J.H. Lee; Wei-Fen Kang; Jeong Eun Shin; Bo Keun Park; Taek‐Mo Chung; et al
出版日期：2024-04-25
求助人
易子 在 2024-11-05 15:54:29 发布，悬赏 10 积分
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