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 Mask 3D effect reduction and defect printability of etched multilayer EUV mask 蚀刻多层EUV掩模的掩模3D效应降低和缺陷可印刷性
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期刊： 作者：Takashi Kamo; Takeshi Yamane; Yasutaka Morikawa; S. Iida; Takayuki Uchiyama; et al 出版日期：2019-03-14 |
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