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 Enhanced chemical mechanical polishing (CMP) performance of porous self-assembled spherical cerium oxide via RE(La/Pr/Nd) doping RE（La/Pr/Nd）掺杂增强多孔自组装球形氧化铈的化学机械抛光性能
相关领域
化学机械平面化
氧化铈
材料科学
多孔性
铈
兴奋剂
抛光
化学工程
氧化物
机械强度
复合材料
冶金
光电子学
工程类
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Zhenyu Zhang; Ning Wang; Xingzi Wang; Zheng Zhao; Dong Chen; et al 出版日期：2024-09-01 |
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