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标题
Erosion of focus rings in capacitively coupled plasma etching reactors
电容耦合等离子体刻蚀反应器中聚焦环的腐蚀
相关领域
薄脆饼 蚀刻(微加工) 等离子体 材料科学 离子 GSM演进的增强数据速率 反应离子刻蚀 等离子体刻蚀 电介质 电容 光电子学 电压 原子物理学 纳米技术 化学 电气工程 物理 图层(电子) 电极 工程类 核物理学 物理化学 电信 有机化学
网址
DOI
10.1116/6.0001225 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者:Xifeng Wang; Hyunjae Lee; Sang Ki Nam; Mark J. Kushner
出版日期:2021-09-21
求助人
Bennyz 在 2024-09-18 08:58:48 发布自中国,悬赏 10 积分
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