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 Study on physical model of resist surface charge in multi-beam mask writer and single variable-shaped beam writers 多光束掩模写入器和单可变光束写入器中抗蚀剂表面电荷物理模型的研究
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| 其它 |
期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Haruyuki Nomura; Noriaki Nakayamada; Hayato Kimura; Keisuke Yamaguchi; Takanao Touya; et al 出版日期：2021-11-09 |
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