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Benzyl-containing quaternary ammonium salt as a new leveler for microvia copper electroplating
含苄基季铵盐微孔电镀铜的新型整平剂
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期刊:Electrochimica Acta 作者:Yachao Meng; Miaomiao Zhou; Wei Huang; Yulin Min; Xixun Shen; et al 出版日期:2022-10-01 |
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