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 Material removal mechanism of cluster magnetorheological effect in plane polishing 平面抛光中团簇磁流变效应的材料去除机理
相关领域
抛光
磁流变液
材料科学
薄脆饼
研磨
单晶硅
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复合材料
结构工程
冶金
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硅
光电子学
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阻尼器
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| 其它 |
期刊：The International Journal of Advanced Manufacturing Technology 作者：Jisheng Pan; Qingzhi Yan 出版日期：2015-06-03 |
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